笔者从事德国公司研磨机销售业务数年，且已曾受邀在国内大专院校﹑工研院﹑中科院及国内外企业针对”新一代高效率纳米研磨的现况及发展”主题演讲，并已规划过数百多个案例，在国内外已销售数百工厂实绩。其主要应用领域可以1998年为区分点。

随着3C产品之轻、薄、短小化及纳米细度材料应用之白热化，如何将超微细研磨技术应用于纳米材料之制作及分散研磨已成为当下之重要课题，

1998 年以前，企业界所面临的问题为如何提高分散研磨效率以降低劳力成本，如染料﹑涂料﹑油漆、油墨﹑铅笔、食品、…等产业。

而1998 年以后，产业技术瓶颈则为如何得到微细化（纳米化）材料及如何将纳米化材料分散到最终产品里，如光电业TFTLCD﹑Jet ink﹑磁性材料﹑保健品﹑生物制药和细胞破碎﹑氧化物﹑纳米材料﹑电子产业﹑光电产业﹑医药生化产业﹑化纤产业﹑建材产业﹑金属产业﹑肥皂、皮革、电子陶瓷、导电浆料、胶印油墨、纺织品、生物制药、喷绘油墨、芯片抛光液、细胞破碎、化妆品、喷墨墨水、陶瓷喷墨、金属纳米材料、塑料材料、特种纳米航空材料等行业。

目前各大陶瓷生产企业纷纷推出别具特色的陶瓷喷墨打印产品，尤其是凹凸面的高清晰喷墨打印陶瓷砖，令人耳目一新。

毫无疑问，喷墨打印技术的春天已经到来!

虽然陶瓷喷墨打印技术在我国只有几年的发展历史，还存在着一些技术性的问题(拉线、烧成后发色不稳定、明亮的红色墨水不能制备)、成本的问题(喷头、墨水的核心技术在外国企业手中，导致喷头、墨水偏高)、新商业模式的问题(新产品管理制度还需要突破、陶瓷喷墨打印设计和研发体系尚未成熟、针对大批采购的个性化供应链体系尚未成形)等。

随着博今科技、道氏制釉、明朝科技、金鹰色料、万兴色料等国产墨水企业对于陶瓷墨水品质的不断提升，随着泰威、美嘉、精陶等喷墨打印机企业已经掌握了除喷头外的机械自动化系统、软件系统，喷墨打印技术将在中国这一全球最大市场获得更大范围的应用。

但喷墨的研磨最终细度和稳定成了所有生产企业所面临的一大难题，在技术方面，除了拉线、发色的问题以外，笔者参加了广州5月份的国际陶瓷工业展后认为喷墨的多功能化、喷墨打印快速化、喷墨技术与薄板更好的结合、墨水固含量的提高、胶状化学物质的均匀分布及稳定性的提升、水性陶瓷墨水的研制、模具的设计和使用也是今后的发展方向。 

针对现在陶瓷喷墨行业产品颜色品种多，批量大，产品不容易研磨，大家可以对纳米研磨机的型号进选择，以下为PUHLER 派勒最早推出针对现在陶瓷喷墨行业产品颜色品种多，批量大，产品不容易研磨，大家可以对纳米研磨机的型号进选择，

针对现在陶瓷喷墨行业产品颜色品种多，批量大，产品不容易研磨，派勒集团推出了研磨腔体为0.5L、6L、10L、25L、60L、150L、1200L 多型号纳米砂磨机，第二代PHESupermaxFlow1200™ 超大型卧式超细砂磨机及制造部同事合影 。

图1

图2

不论是传统产业提升研磨效率求快或是高科技产业纳米化材料求细需求，污染控制都同样重要。所以细﹑快﹑更少污染已成为新一代分散研磨技术最重要的课题。

本文将针对纳米级研磨的现况及发展﹑纳米级分散研磨技术的原理﹑纳米级研磨机的构造﹑现有设备的来源﹑应用实例及注意事项﹑结论及建议等六大主题加以探讨。

纳米粉体仍无法成功地被应用于量产阶段，其主要原因为生产者尚未将传统工业于纳米化时，掌握住所有制程的转化条件，其中包括工艺配方的设计，纳米粉体的前处理，纳米粉体的转化条件等，尤其是纳米粉体因凡得瓦尔力的作用易产生团聚的现象，若只靠传统的分散技术，并无法将纳米粉体分散开来，

因此若要成功地将传统工业纳米化，首先要了解的关键技术，即是如何先将纳米粉体适当地转化，使其在添加到下一个界面后仍为纳米粒子，沒有团聚的现象产生。

说到这里，大家不难了解为何至今仍有那么多纳米粉体无法成功地被应用！其主要原因为市面上大部分的纳米粉体皆尚未被适当地改质，因此无法直接使其成功地被应用到纳米产品的开发与制造。

到今日为止，市面上至少有 200 种纳米产品已被开发出来，可惜的是大部分的粉体例如inkjet、 SiO2、 Al2O3、TiO2、 ZrO2 及 ATO、ITO…等粉体皆尚未被依需求而量身打造地改质，所以无法成功地被应用。

同時， 至少有成千上萬之企业想从事纳米产品的开发，但大部份的人找不到适合他们用的改质过的粉体，所以如何先将纳米粉体做一适当地改质，并使其可以成功地应用到产品端，将是从事纳米科技的人不可不学的課程

目前市面上已有多家的化学品公司及新成立的纳米通用分散液公司，宣称可提供一些通用标准的纳米分散液，但因市面上大部分的纳米分散液尚未被量身打造地改质，因此仍无法直接使其被应用到最终纳米产品的开发与应用。

其原因为当尚未被适当改质的纳米分散液于添加到最終的产品时，往往因界面不相容而产生团聚之现象产生，所以纳米的效果并无法被展现出来。

例如有些应用将纳米的 ZnO 涂布到光学膜上，由于该 ZnO 粉体並未先做适当的界面改质，所以光学膜于涂布該 ZnO 粉体后抗 UV 之效果非但沒有增加，穿透率卻反而大幅降低 !

派勒智能为了帮客户解決上述问题，自2003 年起， 已与德国新材料开发中心从事纳米研究的专家合作，并将设备与工艺进行同步调整和研发新机型(请参阅图1所示)，负责帮客户开发并量身打造所需的表面改质分散剂，提供帮客戶完整的服务，使想从事纳米材料应用的客戶可以心想事成 !

在导入界面改质技术概念前，先前大家可利用三辊研磨、分散机、珠磨机、搅拌磨…等分散研磨设备将材料分散研磨到微米或次微米級， 但却很难达到纳米级的细度 !

其主要原因为一旦材料的颗粒大小被机械力分散研磨纳米化后，此时粉体的比表面积急剧增加，凡得瓦尔力效应及布朗运动转为明显，粉体因而容易再度凝聚在一起，所以不管再怎么分散研磨，粒径总是降不下来 !

为了解決此问题，我們在此介紹一个非常有效的方法 -化学机械制程法。此制程的主要概念如下图一所示，将量身打造好之界面改质剂，利用高速搅拌珠磨机(high speed agitated beads mill) 为工具，将纳米粉体做适当之界面改质，以避免纳米粉体之再凝聚，一直分散研磨到粒径达到要求为止。

（图3 设备的发展develop of Wet grinding mill）

（ 图4 研磨原理grinding mill principle）

在使用化学机械制程法時，搅拌磨机于纳米粉体的分散研磨及表面改质的过程中，提供了很多的优点， 并扮演着重要的角色。

本系统采用了湿法分散研磨方法， 因为是湿法，所以浆料温度的变化较不易因研磨而急速上升，也因此可以选用较小的磨球，如 0.05 -0.3 mm 磨球为氧化锆珠，再搭配研磨机高线度 (约10 ~ 16m/s )，以缩短分散研磨及反应所需的时间。

本制程的另一个好处为所有的研磨参数，如搅拌器的转速、磨球的充填率、流量、产品温度，均可以因需要而调整到最佳化的研磨条件，并可以等比例放大( scale up )以供日后正式量产時使用。

在使用化学机械制程法時(请参阅上图4和图5所示)， 我们只需先行将表面改质剂加入想要改质粉体浆料內，再依最終的粒径要求来设定研磨机所需的消耗电力及比能量值 (specific energy )，利用串联循环研磨操作工艺流程模式(circulation operation mode )来做分散、研磨及界面改质之工作，研磨机运转過程中将自动累积所消耗之电力，直到所设定之比能量达到时将自动停机，如此可以确保研磨品质之均一性。

图5：串联研磨工艺 wet grinding of series process

图6

由过去的经验得知，在分散或研磨纳米粉体的浆料时，若未添加适当的表面改质剂，单靠研磨机的机械力量来做分散研磨，一般只能分散研磨到300 ~ 800 nm 就无法再将粒径往下降， 

其理由为当粒径小于300 nm 时， 粉体的比表面积急速上升且凡得瓦尔力效应加剧，此时粉体处于非常不稳定且容易再凝聚的状态，即使聚集的粉体被磨球打开来了，也非常容易再凝聚回来，除非添加了适当的表面改质剂，才可能继续降粒径往下降到一次粒径的大小。

一般处理浆料表面的方法，有藉由复杂交互作用力，如靜电排斥力、立体排斥力及体积排除作用力等力形成固体或液体表面的稳定状态，

其目的不外乎是避免粉体再凝聚的产生，其中最简单的方法为藉由PH 值的调整，来让纳米粉体表面带电荷，使粉体与粉体間产生电斥力，

然而，纳米粉体因受限于其最終产品应用及配方的限制，适用此方法的应用并不多；

第二种常用的方法为藉由立体排斥作用力来形成固体与固体，固体与液体間的稳定状态，此方法最常选用具高分子量的高分子或单体来当分散剂，当浆料的粒径要求为微米或亚纳米时，此方法效果相当好；

但当所想分散或研磨的浆料的粒径要求小于 100 nm 时，若仍选用具高分子量之高分子或单体来当分散剂，当粉体被纳米化時，浆料内的大部分体积已被高分子量的高分子或单体所形成的障礙物所占据，

此时浆料容易遇到下列的问题 :

图7：界面改质剂选用的法則与范例

原则上，所选用的界面改质剂同时具有下列二个功能机：一个官能机被设计来接到纳米粉体表面，使纳米粉体表面产生一个稳定相，以避免粉体之再凝聚产生；另一个官能机之设计，乃根据日后該纳米粉体所计量被添加之界面(Matrix) 而定，以避免不相容之现象发生。

因为本界面改质制程所采用的工具为湿法分散纳米研磨设备，所以所选用的界面改质剂需能与所使用之溶剂相容。尽管所选用之界面改质剂之分子量很小，但仍可在纳米粒子表面产生 2 ~ 5 nm 厚度之薄膜，足夠产生一个立体证礙并支撑纳米粒子的稳定性，相信根据上述原理所量身打造之界面改质剂，

可以满足下列之要求 :

（如下图五所示），纳米之氧化鋯粉体， 一次粒径小於 10 nm， 左图为尚未經過改质前之纳米氧化鋯，粉体因产生凝聚之现象，所以仍无法被应用於后段之加工， 右图为該粉体經由本文所介紹的化学机械法改质后， 90% 的粉体粒已小於 30 nm。此改质后的纳米氧化锆粉体，可以容易地被添加到一些涂料以增加其表面硬度(hardness)及折射率。

图8

另一个应用实例为纳米級二氧化矽之应用，纳米級二氧化矽已大量地被添加到传统之涂料上，以便增加薄膜表面之强度且不影响到原先光之穿透率。

其理由除了二氧化矽之价格低廉外、又容易与大多数之有机高分子相容。由下（图9）可得知之二氧化矽膠体之粒径分佈为 D90 < 12 nm，

 尽管如此，於添加到涂料前仍先对其做适当之界面改质，以避免添加到涂料后产生再凝聚之情形，因而产生而影响到穿透率。

由下（图10）可以了解到当使用不同界面改质剂及不同粒径大小之二氧化矽膠体時与穿透率之关系，其中从传动系数(transmission coefficient) γ 值的大小可以得到其与穿透率之关系， 原則上， 传动系数(transmission coefficient) γ 值愈小，穿透率将愈大， 当 γ值 > 100 時表示完全不透光。

由该图可以得知，只要选择好适当的界面改质剂，并对二氧化矽做适当之改质，将其添加到涂料后，不慬可以提高涂料的硬度，且不会影响到其穿透率；但对同一之界面改质剂，若添加入不相容的溶剂到涂料时，则可能产生反效果，例如（图10）之 theory, 当100 nm 之二氧化矽溶膠被添加到以乙酸丁酯(butylacetate)为溶剂的涂料后,涂料之穿透率反而变差了 !

图9：矽溶膠colloidal silica(colloidal silica)之粒径分佈,D90< 12 nm.

图7：

涂料添加纳米二氧化矽后与光穿透率之关系,

原則上, γ值越大,表示光之穿透率越低

隨著政府大力地倡导及推广纳米科技的技术及应用，在材料上如何进到纳米尺度材料之要求将是影响到纳米科技是否能夠成熟茁壮之重要因素之一。

由上述报告可以得知，若想将传统工业成功地纳米化，或想得到一个纳米级的分散液，量身打造的界面改质技术是不可或缺的 ! ”

工欲善其事，必先利其器”，所有的粉体均需要先被量身打造地来设计所需之界面改质剂，再利用本文所介紹之机械研磨工艺制程法，来进行纳米粉体表面界面改质之工程，如此想得到一个稳定的纳米级产品将不再是一个梦想，

如何找到一个好的分散和纳米研磨设备以克服传统型研磨机研发至量产纳米尺度材料時所可能遇到之技术瓶颈，将是一大重要课题。

笔者相关文章有介绍新一代销棒型涡轮纳米研磨机已获得中国专利局的发明专利，此种纳米研磨设备不僅可以解決传统型研磨机于放大时所遇到之问题，更可以大大地在量的方面提高分散研磨效率，同时在质的方面亦可以达到纳米尺度材料之要求。该机型已在中国各国家重点核心新材料领域及世界各国广泛地被使用中。

因为纳米级粉体研磨需使用小磨球﹑高转速﹑高能量密度等，同时亦需避免污染产生，一般欧洲厂牌设备较适合。

当然，若读者现已有国产或日制分散和研磨设备，则可以以现有设备做粗磨工艺，然后以欧洲设备做最后一阶段超细纳米研磨，达到”物尽其用”的最佳应用。派勒Puhler– 您的分散及纳米研磨技术顾问！

上述原理及方法，笔者已有逾百厂实绩，

主要应用领域如下：

由上述可以得知”大流量﹑小磨球﹑超强冷却系统”为纳米级粉体研磨主要依循法则。若欲满足细﹑快﹑更少污染﹑更环保节能﹑”纳米级粉体研磨要求，

需满足下列条件：

1) 先认清研磨材料之特性与要求。

2) 根据材料特性要求找到适当研磨机。

3) 搭配适当配套设备，如冰水机﹑压缩空气机、预搅拌机及移动物料桶﹑…等。

4) 找到合适产品的助剂。

5) 与上﹑下游有完善的沟通，以便调整最佳配方与研磨条件，提高纳米粉体相容性。

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